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金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd真空镀膜加工与您分享真空溅射镀膜
定义
给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。
真空溅射锁膜的优缺点
优点：
· 对于任何待锁材料，只有 能做成靶材，就能实现溅射
· 溅射所获得的薄膜与基片结合良好
· 溅射所获得的薄膜纯度高， 致密性好
· 溅射工艺可重复性好，膜 厚 可控制， 同 时司 以 在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜
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pvd真空镀膜加工与您分享被PVD涂层工件表面要求：
1.工件表面不能有锈迹、腐蚀、油漆、胶水、胶料；
2.工件表面必须是光亮并且未经表面改性处理的(如化学电镀、氮化、发黑、TD或者CVD 等)；
3.工件表面粗糙度要求：一般的刀具、模具和零配件在满足使用需求的前提下越光滑越好，成型面 Ra＜0.2um为宜；
4.工件不能是组装件，组装件必须拆开后分别涂层；螺丝、堵头等必须完全拆除；
5.工件有焊接处理，表面需清洁，不能氧化层或埋孔，并且需要提前指出，以评估是否适合涂层；
6.PVD涂层前，提供工件需要涂层区域和涂层位置的示意图或者图纸（包括哪些位置必须涂层，哪些位置不能涂层，哪些位置无所谓）。
真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。
(2)轰击清洗
真空度：通人气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。
(3)手套箱
①沉积锆底层
真空度：通入气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。手套箱时间：5～10min。
②镀ZrN膜
真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。手套箱时间：20～30min。
由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助手套箱源。
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pvd真空镀膜加工与您分享基体外表状况对镀层布局的影响
真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所造成的。开端电镀时，基体资料外表首要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。
