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钢研纳克Plasma 1000 单道扫描ICP光谱仪仪器特点
1. 分析流程全自动化控制，实现软件点火、气路智能控制功能；
2. 输出功率自动匹配调谐，功率参数程序设定；
3. 优良的光学系统，先进的控制系统，保证峰位定位准确，信背比优良；
4. 较小的基体效应；
5. 测量范围宽，超微量到常量的分析，动态线性范围5—6个数量级；
6. 检出限低，大多数元素的检出限可达ppb级；
7. 良好的测量精度，稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%（5ppm），优于国家A等级标准（JJG768-2005）；
8.
Rf输出功率的范围750-1500W，输出功率稳定性小于0.1%；
9. 光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内独立可调，可根据不同元素的不同谱线单独设置条件，和全谱仪器比较有更好的检出限；
10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全；
11. 精度较高的光室恒温系统，保证仪器优良的长短期精度；
12. 多通道蠕动泵进样，保证仪器进样均匀，工作稳定；
13. 使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃，在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m（JJG768-2005规定小于10V/m）。
14. 具有较高的谱线分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线，能分出铁的四重峰。
15. 人性化的软件设计，操作方便，终身免费升级。功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中，进行数据处理，方法编制和结果分析，是真正的多任务工作软件；该软件数据处理功能强大，提供了多种方法，如内标校正、IECS和QC监测功能等，可获得的背景扣除点以消除干扰；对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。
钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
仪器采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。
优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器，稳定，体积小巧，，匹配速度快
冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时监控仪器运行参数，CAN工业现场总线，保障通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。
ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应，高紫外量化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范
围和极快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。
ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，像素，单像素面积24μm X 24μm，三级半导体制冷,制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗
钢研纳克Plasma 1500单道扫描ICP光谱仪可广泛适用于冶金、地质、材料、环境、食品、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。
1 单道扫描ICP光谱仪采用大面积高刻线密度平面全息光栅，Czerny-Turner结构光学系统，通光量大，分辨率高。
2 双光栅设计，整个波长分布范围内均具有极高光谱分辨率，国产ICP光谱仪设计。
3 有效稳定的固态射频发生器，固态光源ICP光谱仪体积小巧，匹配速度快，确保仪器的精度较高运行及优异的长期稳定性。
4 双通道高灵敏PMT检测器，宽动态范围信号处理技术，具有优异的检测能力。紫外光谱范围内自动切换使用紫外PMT。
5 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。
由钢研纳克承担的国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了大面积CCD采集的瓶颈问题，接近于商品水平的产品样机将于年内完成；ICP质谱仪第二代研发样机已成功组装和调试，采集到正确的谱图，这一突破标志着在第二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理攻克。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。